一、中国能生产14nm芯片的公司？
目前中国有这样的技术生产14nm的芯片公司，比如中芯国际
二、14nm芯片我国可以生产吗？
目前中国本土厂商中已经实现了14nm芯片的量产。 早在2019年，中芯国际就宣布已经成功试产14nm芯片，并于2020年开始量产。据了解，中芯国际的14nm芯片采用的是FinFET工艺，性能和功耗与台积电的16nm芯片相当。此外，长江存储也在2020年宣布成功试产了14nm NAND闪存芯片，预计将在2021年开始量产。
三、14nm芯片是最早什么时间生产的？
2014年，要知道英特尔的14nm工艺的芯片在2014年就推出来了，那时候是第5代酷睿，代号为Boradwell，采用的就是14nm工艺。
14nm芯片是什么年代
2.14nm芯片中国可以自己做吗
一场席卷全球的疫情，带来了全球缺芯的后遗症，成熟制程芯片的需求直接出现了大爆发。本来，一个千年难遇的时代红利，可惜美国的一纸规则，我国半导体终究还是辜负了这大好春光。
但是，我国没有放弃，没有沉沦，没有重新上演日本的失落，依旧在忧患中不断发展，在忧患中不断进步，终于，在芯片领域，还是爬上了几个峰腰。
四、14nm芯片多大？
大概一百平方毫米出头。
14纳米芯片常见的大概是一百平方毫米左右。一般来说高制程的芯片常用于移动端，而移动设备基本对空间限制非常严格，所以像手机平板这类设备的芯片都很小，一般就是一百平方毫米出头。也正是因为如此，在手机体积不变的条件下，只能提高制程以获得更强的运算能力，而芯片面积基本是保持在一百平方毫米左右不变。
五、14nm芯片用途？
14nm芯片主要用于高端消费电子产品、人工智能芯片、应用处理器、车载电子等，这类芯片正成为本土Fabless的主流需求。
在物联网兴起、半导体产业转移、摩尔定律趋缓的背景之下，虽然2019年中芯国际就已经量产14nm工艺，但若能实现完全自主可控的14nm，则具有非凡的产业意义。
六、14nm芯片有多大？
不到一个指甲盖的大小。
14纳米是一个非常细微的工艺制成等级，精度相当于1‰根头发丝，即便继承了近20亿个电子管，最终成型的面积也不过一个指甲盖的大小。
拓展：14纳米实际上是芯片工艺制成的一个分界点。14纳米及以上可以采用蚀刻的方式，而14纳米及以下就只能采用光刻。
七、14nm芯片有哪些？
14nm芯片有高通625，高通660，高通670，麒麟710处理器等。
因为这个纳米制造基本上都出现在他的终端处理器上面，而旗舰处理器一般都采用了十纳米的制造工艺，所以他们的性能其实都一般般，但是他们的功耗控制的相当优秀。
八、14nm芯片是哪家企业准备好了生产？
14nm芯片是中芯国际准备好了生产。
全球能生产14nm芯片的也就那么几家，台积电、三星、英特尔，日本的尼康大致也能到这个程度但没什么成本和规模优势。再就是中芯国际可以制造14nm芯片，技术上已经成熟，良品率有保证，就差量产了，估计生产线2022年能全面投产。
九、14nm芯片的手机有哪些？
14你们芯片高通骁龙有820和625。高通骁龙820处理器的智能手机包含：努比亚Z11，三星S7/S7 edge，HTC 10，Sony Xperia XZ，一加三，小米5，LG G5，乐Max 2，乐Max Pro ZUK Z2/Z2 Pro，中兴天机7，vivo Xplay5旗舰版等。
高通骁龙625处理器的智能手机包含：红米4高配版，OPPO R9s，华为Nova，nubia Z11 miniS，三星Galaxy C7等。
十、国产90nm光刻机能生产14nm的芯片吗？
最近，上海传出了一则振奋人心的消息，大意是“14纳米先进工艺规模实现量产”；
消息一经传出，大家纷纷猜测90nm国产光刻机在其中起到了至关重要的作用，这也让国产光刻机再次走进人们热议视线。
光刻机又称掩模对准曝光机，是芯片加工过程中用于去除“晶圆表面涂抹的光刻胶”的一种重要设备。
目前市场上的主流光刻机分为两大类，一是EUV光刻机、二是DUV光刻机，前者目前是最先进的光刻机，能制造5nm的高端芯片，也只有荷兰的ASML才掌握。
受限于出口限制，目前国内尚没有一台EUV光刻机，但我们有DUV光刻机，其中上海微电子装备股份有限公司就是光刻机的代表企业。
上海微电生产的光刻机，目前处于90nm水平。虽然较ASML仍有较大的差距，但纵观国内，比起国内其他半导体公司仍停留在200nm工艺，上海微电绝对是行业翘楚。
上海微电所生产的国产SMEE200系列光刻机，几乎是国内光刻机“先进”的代名词。
9月14日，“上海发布”发布了一则消息，提到14nm芯片实现量产。
结合目前国内最先进的光刻机是90nm，不少人大呼上海微电以90nm光刻机为平台，可以实现14nm芯片生产了，国产芯片行业再迎跨越，振奋不已。
那么实打实地说，90nm光刻机真的能生产14nm制程的芯片吗？14nm芯片的量产，真的得益于上海微电自产的光刻机吗？
关于这一问题，大家先要走出一个误区，不要误认为只有14nm的光刻机才可以生产14nm制程的芯片，理论上90nm光刻机是可以生产90nm制程以下的芯片的。
这一原理类似于照相机的底片，发烧友应该知道，底片经过多次曝光，是可以得到更清晰照片的。
以这个原理为基础，90nm的光刻机，在生产芯片时，倘若经过两次“曝光”，理论上可以生产出45nm的芯片；以此类推，经曝光三次，22nm的芯片就生成了。
当然，理论归理论，在“无限”曝光能得到更短制程芯片的同时，有一个问题不容忽视，那就是“良品率”。
事实上，曝光次数越多，那么良品率就越低，即便经4次曝光能生产出14nm的芯片，大部分芯片也无法用于“实战”，说白了就是废品。
所以，90nm光刻机用于生产14nm芯片，理论上可行，但鉴于较低的良品率，实际用于量产的可能性微乎其微，毕竟要考虑到“合格率”。
再就是即便不计良品率，采用多次曝光的方式来缩短芯片的制程，恐怕成本上也吃不消。事实上曝光次数越多，成本就会随之陡增。对比起来，与其自产，还不如进口，毕竟高昂的成本也是要考虑的问题。
因此，无论是站在良品率还是成本的角度上，14nm芯片实现量产的功劳恐怕是不能算在国90nm光刻机的头上的。
既然实践中，90nm国产光刻机用于量产14nm芯片的可能性几乎为0，那么此次上海宣布14nm芯片实现量产，究竟是怎么回事呢？得益于谁呢？
结合以往的消息，早在去年的时候，国内半导体行业龙头中芯国际就传出已向ASML公司采购价值11亿美元光刻机的消息。
据悉，采购的这批光刻机是深紫外线光刻机，也就是248nm、193nm光源为核心部件的光刻机，虽然距EUV光刻机有较大的技术差距，但算得上是ASML公司的二线产品，理论上能用于生产0-130nm制程的芯片，14nm制程芯片实现量产自然不在话下。
另外，今年第一季度的时候，荷兰ASML就已经向中芯国际交付了23台DUV光刻机。也正是得益于23台光刻机的交付，中芯国际才宣称14nm工艺芯片实现量产。
综合以上消息推测，此次实现14nm制程芯片的量产，很有可能利用的还是进口光刻机，而非上海微电国产的90nm光刻机。
当然，以上也仅限于猜测，实际上早在2021年底，一条“低调”的消息是上海微电即将交付28nm光刻机，而28nm光刻机理论上经两次曝光后，是可以量产24nm芯片的，虽然良品率较低、成本微高。
不排除上海微电已经掌握生产28nm光刻机并交付市场的可能性，以此用于14nm芯片的量产。
当然，现在公开消息显示上海微电对外宣称的最先进光刻机依然停留在90nm。
综上来说，无论是14nm芯片量产的消息，还是上海微电在光刻机国产方面取得的重大突破，这都值得我们兴奋。但事实求是地说，真让90nm国产光刻机去量产14nm芯片，恐怕是不现实的。
当然大家也不要过度的悲观，实际上即便5nm芯片是目前几乎最先进的技术，我们尚不掌握，但从市场角度而言，能用到5nm及以下制程芯片的领域很窄，实际上结合2020年的相关统计，应用14nm及以上工艺的芯片占全球芯片市场的82%左右，这才是主流市场。而一旦我们实现了14nm芯片的量产，理论上我们可以在主流制程芯片市场上角逐和竞争。
光刻机和芯片领域我们起步较晚，当下又遭遇了技术封锁，但我们的信心是存在的，不会仅限于14nm芯片的量产，我们一向能在打压中实现突破，想必将来，我们一定能迎头赶上，5nm、3nm都不在话下，当然这需要长期的追赶，不是一朝一夕就能一蹴而就的。