一、90nm光刻机能生产28nm芯片？
不行。1. 以目前最先进的28nm芯片工艺为例，光刻机的曝光分辨率需要达到40nm以下，而90nm工艺的光刻机分辨率远远达不到这个水平，无法满足28nm芯片的工艺要求。2. 在芯片工艺的发展历程中，每次工艺的跨越往往需要相应的技术突破和创新，从90nm工艺到28nm工艺需要经过多次的技术优化和迭代，因此不可能直接使用90nm光刻机生产28nm芯片。3. 芯片制造是一个非常严谨和精细的过程，尽管科技在不断进步，但是不同的工艺水平和设备能力之间，还是存在着很大的差距，这是不可逾越的。
二、国产28nm光刻机能生产几nm芯片？
理论上可以生产7nm芯片。
国产28nm光刻机可以生产7nm芯片。28nm光刻机也就是duv深紫外光光源波长的光刻机，目前该类型光刻机最高制程就是7nm。能够达到duv光刻机7nm芯片量产的有台积电和三星两家，而中芯国际也能制造7nm芯片，只不过良品率没到量产阶段，其7nm芯片晶体管密度能达到台积电10nm水平。
三、90纳米光刻机能生产28nm芯片吗？
不能。
1，光刻机是半导体工艺中非常重要的设备，28nm芯片的制作需要比90nm更高的分辨率和更精密的加工工艺，而90nm光刻机的分辨率和加工工艺达不到28nm芯片的制作要求。2，目前，28nm芯片的制作需要的光刻机主要是40nm和28nm的光刻机，这些设备具备更高的分辨率、更精密的控制系统和更高效的加工工艺。
四、28nm光刻机能生产什么的芯片？
28纳米光刻机不仅能用来生产28纳米芯片，更有望通过多重曝光的方式生产14纳米、10纳米、7纳米芯片，只是工艺难度加大，良率会有所降低。
此外，美国商务部近日发布一项临时最终规定，对芯片设计工具软件EDA进行出口管制，包括GAAFET(全栅场效应晶体管)结构集成电路所必须的ECAD软件;金刚石和氧化镓为代表的超宽禁带半导体材料等四项技术。目前全球EDA厂商大约共有六七十家，但能排在第一梯队的也就只有三家，美国Synopsys(新思科技)、美国Cadence(楷登电子)和西门子明导MentorGraphic;第二梯队的美国仿真巨头ansys、中国的华大九天等，拥有细分领域的全流程EDA工具，在某些点工具上也具有一些优势，约占全球市场份额的15%
五、28nm光刻机能生产10nm的芯片吗？
可以生产10nm芯片。
28nm光刻机可以生产10nm芯片。在没有euv光刻机的年代，台积电利用28nm光刻机就已经能够生产7nm芯片了，所以生产10nm完全没问题。其原理大致是通过对晶圆多次曝光多次蚀刻达到更高制程。国内比如中芯国际现在也可以生产10nm芯片。
六、28nm光刻机能生产7nm的芯片吗？
不能，这好比大机床车不了精密另件
七、28nm光刻机可以生产多少nm芯片？
28纳米光刻机单次曝光可完成28纳米制程，双次曝光可生产14纳米制程的芯片，但是双次曝光良品率会下降，当然理论上如果加强工艺最高能到11纳米制程
八、28nm光刻机能造出几nm的芯片？
5纳米。
28纳米光刻机作为先进半导体芯片制造中的重要设备之一，其本身的生产工艺无法支持5纳米的芯片生产。但是，通过使用一系列先进的制造技术和调整设备参数等手段，可以将28纳米光刻机用于5纳米芯片生产。
九、28nm光刻机能刻多少纳米芯片？
28nm光刻机虽然与世界先进的5nm或者7nm还有差距，除了一些手机，pc高端芯片做不了，一些通用类的还是可以满足，从理论上来说28nm光刻机能做到7nm，但实际上是难以做到把性能都发挥的。淋漓尽致
十、22nm光刻机能生产多少nm的芯片？
能生产7nm的芯片。
22nm光刻机最高能生产7nm的芯片。22nm光刻机也就是duv光刻机，通过技术手段比如多次曝光可以制造出7nm芯片。最先利用duv光刻机制造出7nm芯片的是台积电和三星公司，也是目前全球可以做到7nm量产的两家公司。像英特尔和中芯国际也可以用22nm光刻机制造7nm芯片，不过良品率有待提高。